Microscopio B-190TBPL+
Microscopio de campo claro con sistema de enfoque motorizado, cabezal digital de 5MP , 1000x, PLAN
El B-190TBPL+ ofrece las mismas características que el B-190TBPL pero con una cámara mejorada de 5Mp y un ajuste de enfoque motorizado triple totalmente controlado electrónicamente: Macro, Semi-Micro y Micro. El nuevo sistema X-OEF (Optika EasyFocus system) sustituye el clásico sistema de enfoque mecánico por una solución innovadora que permite más funciones.
EasyFocus permite seleccionar tres resoluciones diferentes (desplazamiento para cada paso): Macro (250 μm); Semi-Micro (8 μm); Micro (1 μm).
El nuevo sistema X-OEF incluye una función de retracción de la platina que facilita y agiliza las operaciones de colocación de aceite de inmersión y cambio de portaobjetos.
Cada resolución de enfoque (Macro, Semi-Micro y Micro) se muestra claramente al usuario mediante tres LED azules dedicados.
Cabezal: Binocular con cámara integrada de 5 MP, inclinado 30°; giratorio 360°.
Tableta Windows PC desmontable incluida, giratoria e inclinable.
3 disponibles
- Ajuste dióptrico: Ocular izquierdo.
Oculares: WF10x/18 mm, ocular alto, fijado por tornillo.
Puente nasal: Revólver cuádruple a bolas, invertido.
Objetivos:
– Objetivo N-PLAN 4x/0,10
– Objetivo N-PLAN 10x/0,25
– Objetivo N-PLAN 40x/0,65
– Objetivo N-PLAN 100x/1,25 (aceite/agua). Todos con tratamiento antifúngico.Platina: Platina mecánica, 125×115 mm, rango de movimiento X-Y 70×30 mm. Escala Vernier en los dos ejes, precisión: 0,1 mm.
Enfoque: Sistema X-OEF con tres resoluciones diferentes (Macro; Semi-Micro; Micro) y función de retracción de la platina.
Condensador: Abbe N.A. 1.25, precentrado, enfocable, con diafragma iris.
Iluminación: X-LED² con LED blanco de 3 W y control de luminosidad. Temperatura de color: 6.300 K. Fuente de alimentación externa multienchufe 100-240Vac/6Vdc.
Optika se enorgullece de presentar el primer microscopio de rutina con triple ajuste de enfoque totalmente controlado electrónicamente: Macro, Semi-Micro y Micro. El nuevo sistema X-OEF (Optika EasyFocus system) sustituye el clásico sistema de enfoque mecánico por una solución innovadora que permite más funciones. EasyFocus permite seleccionar tres resoluciones diferentes (desplazamiento para cada paso): Macro (250 μm) – Semi-Micro (8 μm) – Micro (1 μm).
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